簡(jiǎn)要描述：

日立高新磁控濺射器
采用LCD觸摸屏，可以更加簡(jiǎn)便地設(shè)定加工條件
可處理較厚或較大的樣品(選配件)
記憶功能可存儲(chǔ)常用加工條件

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日立高新磁控濺射器MC1000

日立高新磁控濺射器（Hitachi Ion Sputter )MC1000采用了電磁管電極，能夠限度地減輕對(duì)樣品的損壞，并在樣品表面涂覆一層均勻粒子。適用于高分辨率的掃描式電子顯微鏡。

日立高新磁控濺射器（Hitachi Ion Sputter )MC1000的樣品直徑：60 mm
日立高新磁控濺射器（Hitachi Ion Sputter )MC1000的樣品高度：20 mm

日立高新磁控濺射器

特點(diǎn)：

采用LCD觸摸屏，可以更加簡(jiǎn)便地設(shè)定加工條件
可處理較厚或較大的樣品(選配件)
記憶功能可存儲(chǔ)常用加工條件

規(guī)格：

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日立科學(xué)儀器有限公司為您提供日立高新磁控濺射器MC1000的參數(shù)、價(jià)格、型號(hào)、原理等信息，日立高新磁控濺射器MC1000產(chǎn)地為日本、品牌為日立，型號(hào)為MC1000，價(jià)格為面議，更多相關(guān)信息可，公司客服電話7*24小時(shí)為您服務(wù)

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日立高新磁控濺射器采用LCD觸摸屏，可以更加簡(jiǎn)便地設(shè)定加工條件可處理較厚或較大的樣品(選配件)記憶功能可存儲(chǔ)常用加工條件

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采用LCD觸摸屏，可以更加簡(jiǎn)便地設(shè)定加工條件
可處理較厚或較大的樣品(選配件)
記憶功能可存儲(chǔ)常用加工條件